| FPD(フラットパネルディスプレイ)の生産ラインにおいて、ガラス基板上に塗布又は成膜された薄膜の膜厚測定用として販売されているナノスペック６５００シリーズは、ナノメトリクス社が長年培ってきた高い光学技術※１やノウハウと、解析ソフトウェア、高精度なステージ駆動などの技術が凝縮されており、世界の主要液晶メーカー工場へ100台を超える納入実績があります。そのナノスペック６５００シリーズの業務移管を受け、東朋テクノロジーが独自の技術でさらなる開発を行い、付加価値を高め、ナノスペック６５００シリーズの製造・販売・サービスを
行っております。 |
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| この高スループット、高精度、高信頼性をもつ６５００シリーズに、分光エリプソメータ（SE）および紫外光（UV）搭載モデルを追加、より広範囲な膜厚測定･膜質評価が可能となっております。現在は、大型基板サイズG８用（2160mm×2400mm）まで各種基板に対応しております。 |
| ※１膜厚測定装置最大手のNanometrics Incorporated (USA)が開発したSR(膜厚測定)ヘッド。 |
ナノスペックの膜厚測定原理は、光の干渉色測定方式を応用したものです。
測定試料に白色光または紫外光を垂直に当て、膜の上下の界面で反射した光の干渉光を分光ヘッド部へ導き分光した光の強度を解析して膜厚値を算出します。
また、分光エリプソメータは、広い波長範囲の入射光と反射光の偏光変化量から複数の光学乗数（屈折率ｎと消衰係数ｋ）と膜厚を同時に算出します。 |
パターン化されたエリアの測定を可能にするため、最小0.75μｍのスポットによる測定をご提案します。
TFT構造における n+ / a-Si / SiN / Glass などの多層膜においても0.75μｍスポットによる3層膜同時膜厚測定（n,k 値含む）が可能です。 |
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| モデル |
NanoSpec6500シリーズ |
6500X-SE
（エリプソ搭載機） |
| 基板サイズ（ｍｍ） |
300mm×3200mm |
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| 測定方式と分光ヘッド |
光干渉式反射率測定、リニアアレー素子 |
| 測定波長範囲（ｎｍ) |
400nm−800nm |
（SR）400nm−800nm
（SE）380nm-1000nm |
| 膜厚測定範囲 |
10nm−20μｍ |
（SR）10nm−20μｍ
（SE） 0nm−10μｍ |
| 多層膜測定 |
3層膜まで測定可能 |
膜質評価
（ｎ＆ｋ） |
測定可能 |
| 測定時間 |
0.5〜sec/point (膜種による) |
| 測定スポットサイズ |
5X レンズ：50μm
10X レンズ：25μm
50X レンズ：5μm
100X レンズ：0.75μm
（SEは0.6mm×1.5mm） |
| オプション |
CIM、ローダーインターフェース、パターン認識、
スモールスポット、抵抗率測定、接触角測定など |
| ユーティリティ |
電源 単相 AC200V 50/60Hz 10A
真空 -55〜-80KPa
圧空 0.55〜0.60MPa |
| 単層膜 |
ガラス上／メタル上 |
SiOx、SiNx、a-Si、n-a-Si、ITO、PI、レジスト |
| ガラス上 |
Ta2O5、Al上Al2O3 |
| 多層膜 |
ガラス上／メタル上 |
SiOx/Poly-Si/SiOx/SiNx、Poly-Si/SiOx/SiNx
a-Si/SiOx/SiNx/SiOx |
| ガラス上 |
レジスト/ITO、ITO/SiO2、PI/SiO2、SiOx/SiNx、TaO2O5/SiNx |
| 東朋テクノロジーでは中国大陸、台湾地域、韓国でもサポート体制を確立しておりますので、膜厚測定装置、その他検査装置のことは何なりと弊社までご相談ください。 |
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FPD用自動膜厚測定装置 NanoSpec6500についての問合せ先
クリーンシステム事業
検査装置営業
TEL ０５８７−２４−１２１０
FAX ０５８７−２４−１２２４ |
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