FPD用自動膜厚測定装置 
NanoSpec6500

商品概要

FPD(フラットパネルディスプレイ)の生産ラインにおいて、ガラス基板上に塗布又は成膜された、薄膜の膜厚測定用として販売されているナノスペック6500シリーズは、ナノメトリクス社が長年培ってきた高い光学技術やノウハウと、解析ソフトウェア、高精度なステージ駆動などの技術が凝縮されており、世界の主要液晶メーカー工場へ100台を超える納入実績があります。 そのナノスペック6500シリーズの業務移管を受け、東朋テクノロジーが独自の技術でさらなる開発を行い、付加価値を高め、ナノスペック6500シリーズの製造・販売・サービスを行っております。

商品特徴

  • 高スループット、高精度、高信頼性をもつ6500シリーズに、分光エリプソメータ(SE)および紫外光(UV)搭載モデルを追加、より広範囲な膜厚測定・膜質評価が可能
  • 現在は、大型基板サイズG10用(2900mm×3100mm)まで各種基板に対応
  • 膜厚測定原理(ナノスペックの膜厚測定原理は、光の干渉色測定方式を応用したものです。測定試料に白色光または紫外光を垂直に当て、膜の上下の界面で反射した光の干渉光を、分光ヘッド部へ導き分光した光の強度を解析して膜厚値を算出します。また、分光エリプソメータは、広い波長範囲の入射光と反射光の偏光変化量から、複数の光学乗数(屈折率nと消衰係数k)と膜厚を同時に算出します。)
  • スモールスポット測定(パターン化されたエリアの測定を可能にするため、最小0.75μmのスポットによる測定をご提案します。TFT構造における n+ / a-Si / SiN / Glass などの多層膜においても、0.75μmスポットによる3層膜同時膜厚測定(n,k 値含む)が可能です。)

商品外観、構成

NanoSpec6500外観

様々な基板の膜厚測定・検査に対応

ガラス上/メタル上 SiOx、SiNx、a-Si、n-a-Si、ITO、PI、レジスト
単層膜
ガラス上 Ta2O5、Al上Al2O3
ガラス上/メタル上 SiOx/Poly-Si/SiOx/SiNx、Poly-Si/SiOx/SiNx
多層膜 a-Si/SiOx/SiNx/SiOx
ガラス上 レジスト/ITO、ITO/SiO2、PI/SiO2、SiOx/SiNx、TaO2O5/SiNx

仕様

モデル Nanospec6500シリーズ >6500X-SE(エリプソ搭載機)
基板サイズ(mm) 300mm – 3200mm
測定方式と分光ヘッド 光干渉式反射率測定、リニアアレー素子
測定波長範囲(nm) 400nm-800nm (SR)400nm-800nm
(SE)380nm-1000nm
膜厚測定範囲 10nm-20μm (SR)10nm-20μm
(SE)0nm-10μm
多層膜測定 3層膜まで測定可能
膜質評価
(n&k)
測定可能
測定時間 0.5~sec/point (膜種による)
測定スポットサイズ 5X レンズ:50μm
10X レンズ:25μm
50X レンズ:5μm
100X レンズ:0.75μm
(SEは0.6mm×1.5mm)
オプション CIM、ローダーインターフェース、パターン認識、
スモールスポット、抵抗率測定、接触角測定など
ユーティリティ 電源 単相 AC200V 50/60Hz 10A
真空 -55~-80KPa
圧空 0.55~0.60MPa
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